Vaakumaurustamine: Põhimõte on kilematerjali kuumutamine aurustiga vaakumtingimustes, et see aurustuda või sublimeerida, ja seejärel lastakse aurustunud osakeste vool otse substraadi poole, kus see sadestatakse tahke kile moodustamiseks. Aurustumine jaguneb ka elektronkiire aurustamiseks, takistusaurustamiseks, induktsioonaurustamiseks jne.
Ioonpindamine: ioonimine viitab üldiselt katmismeetodile, mis tekitab katmisprotsessi ajal suure hulga ioone. Kile moodustamise käigus pommitatakse substraati pidevalt suure-energiaga osakestega, mille tulemuseks on väga tugev kilekiht, millel on suurepärane tugevus ja nakkuvus. Kui suure täpsusega kilede loomiseks kasutatakse ioonplaatimist, saab suured ioonosakesed välja filtreerida, mille tulemuseks on väga struktuurne ja tihe kile.
Kõige tavalisemad vaakumkatmisseadmete katmistehnoloogiad igapäevaelus on need kolm. Konkreetne valida oleneb sellest, millist kilekihti katta ja millist töödeldavat detaili katta.
